四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法

产品名称：四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法

产品描述：

四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]的合成方法合成了系列四(3-异戊氧基)金属酞菁MPc(3-iso-PeO)4 (M=Cu, Pb, Ni)和四(4-异戊氧基)金属酞菁MPc(4-iso-PeO)4 M= =Cu, Ni, Pb, Zn)配合物，通过元素分析、核磁共振、FTIR光谱和质谱等对合成产物进行了表征。利用旋涂制备了系列四(3-异戊氧基)金属酞菁MPc(3-iso-PeO)4(M=Cu, Pb,Ni)、四(4-异戊氧基)金属酞菁MPc(4-iso-PeO)4 (M=Cu, Ni, Pb, Zn)、系列四叔J基四氮杂卟啉配合物MTAP(t_Bu)4 [M=Pd、Co、Ni]和四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t_Bu)4]薄膜，采用Uv-Vis、FTIR和AFM对配合物在薄膜中的存在状态和薄膜结构进行了分析。四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]利用旋涂制备了系列四叔J基四氮杂卟啉类酞菁配合物[Pd、Co、Ni、CuTAP(t-Bu)4]和四叔J基酞菁配合物[CuPCc(t-Bu)4]旋涂膜。研究了中心金属、共轭环大小、薄膜形貌对NHg和NO2的气敏性影响。研究发现配合物气敏性与中心金属离子半径、d-电子数和共轭能力有关。中心金属离子半径越大、d-电子数越多，中心金属d-电子对酞菁共轭环的π -电子贡献越大，对卟啉环的给电子能力增加大，越有利于卟啉环向NH3转移电子,利于产生空穴载流子，卟啉配合物的响应越大。增加配合物共轭环共轭能力，了配合物对气体的响应，但降低了响应恢复能力;多孔微型薄膜结构有利于薄膜对气体分子的吸附与脱附，大大了配，合物的响应恢复能力。产地：西安纯度：99%用途：用于科研供应商：西安齐岳生物科技有限公司西安齐岳生物供应多种酞菁定制材料：四叔丁基酞菁配合物[CuPc(t-Bu)4]苯硫基铝钛菁(C56H32AlClN8S4)烷氧基铝钛菁(C56H32AlClN8O4)疏水性四苯氧基酞菁锌(ZnT PPc)聚氨基酞菁钴(CoTAPc)亚酞菁(三硝基溴硼亚酞菁)薄膜酞菁铜(CuPcTs)四(2-氯丙酰胺基)氯代铟酞菁[InClPc(NHCOCHClCH3)4]四磺酸酞菁钴配合物阴离子(CoPcTS4-)酞菁氧钛(TiOPc)薄膜红区荧光探针四磺基铝酞菁(AlS4Pc)颜料酞菁蓝(CuPc)八羧酸酞菁铝配合物(AlPc(COOH)8)四叔丁基萘酞菁氧钒((t-Bu)_4 NcVO)化合物四取代4-异丙苯基苯氧基酞菁铅PbPc(CP)4四氨基镁酞菁(MgPc)2,3-二辛基酞菁氧钒(2,3-C8OVPc)2,16(17)-二辛基酞菁氧钒(dp-C8OVPc)1,15-二辛基酞菁氧钒(1,15-C8OVPc)1,18-二辛基酞菁氧钒(1,18-C8OVPc)四磺基铝酞菁(AlS4Pc)Y晶型酞菁氧钛(TiOPc)温馨提示：以上产品只可提供做科研实验不能用于人体齐岳生物小编ssl2022.2.21 相关目录： cas1082287-99-7花菁染料结构图及合成 磺酸铁酞菁(FePeS)酞菁科研试剂材料

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